[单选题]1.黄某欲申请集成电路布图设计保护,若发生下列()情形,则该布图设计能受到集成电路布图设计专有权保护。
A.王某欲申请保护的布图设计还处于构思中
B.王某欲申请保护的布图设计是一种三维配置
C.王某欲申请保护的布图设计是一套操作方法
D.王某欲申请保护的布图设计是一套处理过程
正确答案:B
参考解析:《集成电路布图设计保护条例》第五条规定:“本条例对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。”集成电路布图设计尚处于构思状态,或非揭示自然界中客观存在的物质、现象、变化过程及其特性和规律的过程、操作方法和工具性理论,则不受集成电路布图设计专有权保护。
[单选题]2.根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列说法错误的是()。
A.集成电路中须有三个以上元件
B.集成电路中需至少有一个是有源元件
C.集成电路布图设计是一种三维配置
D.集成电路是以半导体材料为基片
正确答案:A
参考解析:《集成电路布图设计保护条例》第二条规定,集成电路是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。所谓集成电路布图设计(以下可简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
[单选题]3.不受保护的布图涉及的情形不包括()。
A.处理过程
B.操作方法
C.思想
D.为制作半导体集成电路而设计的三维配置
正确答案:D
参考解析:受保护的集成电路布图设计专有权的保护客体应是为制作半导体集成电路而设计的三维配置。《集成电路布图设计保护条例》第五条规定,本条例对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。ABC三项属于不受保护的情形。
[单选题]4.下列关于集成电路布图涉及的登记说法错误的是()。
A.提交的申请文件要有布图涉及登记申请表
B.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未向国家知识产权局提出登记申请的,国家知识产权局可以适当宽限日期
C.布图设计登记申请初审主要是对布图设计申请材料和其他手续的审查
D.国家知识产权局负责对驳回布图设计登记申请决定不服提出的复审请求进行审查,以及负责对布图设计专有权撤销案件进行审查
正确答案:B
参考解析:B项,布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国家知识产权局提出登记申请的,国家知识产权局不再予以登记。
[单选题]5.下列各项不属于布图设计登记申请复审程序的是()。
A.合议审查
B.实质审查
C.复审程序的终止
D.形式审查
正确答案:B
参考解析:布图设计登记申请复审程序有三个:形式审查、合议审查和复审程序的终止。
[单选题]6.黄某向国家知识产权局提出集成电路布图设计保护申请。下列情形中,国家知识产权局不予受理的是()。
A.黄某的布图设计自创作完成之日起已满5年,但不足10年
B.黄某没有将布图设计投入商业利用,但提交的是布图设计的复制件或者图样
C.黄某的布图设计在英国首次商业利用刚满1年
D.黄某提交的申请文件使用的是英文
正确答案:D
参考解析:布图设计登记申请有下列情形的,国家知识产权局不予受理:①未提交布图设计登记申请表或者布图设计的复制件或者图样的,已投入商业利用而未提交集成电路样品的,或者提交的上述各项不一致的;②布图设计自创作完成之日起15年后提交申请的;③布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记;④申请文件未使用中文的。
[单选题]7.下列各项中,不属于布图设计获准登记后应当予以撤销的情形的是()。
A.匡某创作的集成电路布图设计符合受保护的相关规定
B.倪某申请保护的布图设计不具有独创性
C.黄某的布图设计不符合《集成电路布图设计保护条例》规定集成电路和布图设计用语定义
D.外国人Kate创作的布图设计没有首先在中国境内投入商业利用
正确答案:A
参考解析:我国《集成电路布图设计保护条例》第二十条规定:“布图设计获准登记后,国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规定的,应当予以撤销,通知布图设计权利人,并予以公告。”下列情形应当予以撤销:①不符合《集成电路布图设计保护条例》规定集成电路和布图设计用语定义的。②外国人创作的布图设计没有首先在中国境内投入商业利用的;外国人创作的布图设计,其创作者所属国没有同中国签订有关布图设计保护协议,或者没有与中国共同参加有关布图设计保护国际条约。③申请保护的布图设计不具有独创性。④布图设计的保护延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。⑤布图设计自创作完成之日起超过15年。
[单选题]8.甲公司和乙公司合作创作集成电路布图设计,若创作完成后,其专有权()。
A.未作约定的,其专有权由甲公司享有
B.未作约定的,其专有权由甲公司和乙公司共同享有
C.未作约定的,其专有权由乙公司享有
D.即使已做约定,也一律由甲公司和乙公司共同享有
正确答案:B
参考解析:两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计,其专有权的归属由合作者约定;未作约定或者约定不明的,其专有权由合作者共同享有。
[单选题]9.下列关于集成电路布图设计专有权的说法,正确的是()。
A.集成电路布图设计复制权是指权利人有权且只能重复制作布图设计
B.布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计保护条例》保护
C.布图设计专有权的保护期为15年
D.商业使用权是指权利人经国家知识产权局批准可以将受保护的布图设计投入商业利用
正确答案:B
参考解析:集成电路布图设计复制权是指权利人有权重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。集成电路布图设计商业使用权是指集成电路布图设计权利人有权将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的权利。我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条规定,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
[单选题]10.张某对其创作的集成电路布图设计已申请保护,若张某死亡后,其布图设计专有权()。
A.由国家知识产权局享有
B.由近亲属共同享有
C.由国家知识产权局决定某个主体享有
D.在保护期内依照继承法的规定转移
正确答案:D
参考解析:《集成电路布图设计保护条例》第十三条规定,布图设计专有权属于自然人的,该自然人死亡后,其专有权在本条例规定的保护期内依照继承法的规定转移。
[单选题]11.赵某因法定原因被给予使用布图设计非自愿许可的决定,下列说法错误的是()。
A.赵某在一定条件下,有权允许他人使用
B.范围应当但不仅限于为公共目的非商业性使用
C.国务院知识产权行政部门应当及时通知布图设计权利人
D.应当根据非自愿许可的理由,规定使用的范围和时间
正确答案:A
参考解析:给予使用布图设计非自愿许可的决定,应当根据非自愿许可的理由,规定使用的范围和时间,其范围应当限于为公共目的非商业性使用,或者限于经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予的补救。国务院知识产权行政部门作出给予使用布图设计非自愿许可的决定,应当及时通知布图设计权利人。取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者其他组织不享有独占的使用权,并且无权允许他人使用。
[单选题]12.下列关于集成电路布图设计反向工程的说法,错误的是()。
A.通过技术手段对受保护的布图设计获取技术信息的,可以直接复制进行商业利用
B.可以是通过技术手段对受保护的布图设计进行评价而获取有关技术信息
C.仍需创作出具有独创性的布图设计
D.受保护的布图设计需从公开渠道取得
正确答案:A
参考解析:集成电路布图设计反向工程,是指通过技术手段对从公开渠道取得的受保护的布图设计进行评价、分析而获得该产品的有关技术信息,在此基础上,创作出具有独创性的布图设计的行为。
[单选题]13.2020年9月28,权利人格景获准登记集成电路布图设计。若钱某发生()情形,可以不经格景许可,使用其集成电路布图设计,并不向其支付报酬。
A.钱某为营利目的复制格景的布图设计
B.钱某对格景尚未投放市场的布图设计进行商业利用
C.钱某明知某集成电路含有格景的布图设计仍将其投入商业利用
D.钱某为个人使用复制格景的布图设计
正确答案:D

泽熙美文